分子束外延MBE液氮低溫系統(tǒng)是一種在超高真空環(huán)境下制備高質量單晶薄膜的關鍵技術。為了實現(xiàn)的材料純度和精確的界面控制，MBE系統(tǒng)必須有效地抑制來自腔體內部的熱輻射和殘余氣體污染。液氮制冷系統(tǒng)在此扮演了“低溫衛(wèi)士"的角色。

一、 液氮制冷系統(tǒng)在MBE中的核心功能與重要性

液氮制冷系統(tǒng)通過其-196°C（77K）的極低溫，主要實現(xiàn)以下三個關鍵功能：

1. 熱輻射屏蔽（Cryo-shielding）： MBE生長腔室內的加熱源（如襯底加熱塊、 effusion cell 爐子）溫度高達數(shù)百甚至上千度，會產生強烈的熱輻射。這些熱輻射會直接或間接加熱其他部件（如腔壁、快門），導致其放氣，破壞真空度，并成為污染源。液氮冷阱和 shrouds 通過吸收這些熱輻射，極大地降低了腔室的背景熱負載，維持了系統(tǒng)的熱穩(wěn)定性。

2. 捕獲殘余氣體（Cryo-pumping / Gettering）： 即使在超高真空下，腔室內仍存在微量的殘余氣體分子（如H?O, CO, CO?, O?等）。這些分子一旦吸附在生長的晶格表面，就會成為致命的雜質。液氮冷卻的表面（特別是內部包裹式冷屏）像一個“低溫捕集器"，當殘余氣體分子碰撞到其表面時，會因失去動能而被牢牢“凍結"吸附，從而有效地將這些污染物從真空環(huán)境中移除，創(chuàng)造出一種“超潔凈"的生長環(huán)境。這是獲得高遷移率半導體材料（如GaAs、AlGaAs）的前提。

3. 保護關鍵部件： 液氮系統(tǒng)也常用于冷卻MBE的另一個核心部件——反射式高能電子衍射（RHEED）槍。RHEED槍在工作時會產生大量熱量，若不有效冷卻，其自身的熱變形和放氣會嚴重影響電子束的穩(wěn)定性和真空度。液氮冷卻確保了RHEED信號的穩(wěn)定和精確，為原位實時監(jiān)控晶體生長提供了保障。

分子束外延MBE液氮低溫系統(tǒng)參數(shù)

二、 液氮制冷系統(tǒng)的組成與工作原理

一套完整的MBE液氮輸送與循環(huán)系統(tǒng)通常由以下幾部分組成：（需要根據(jù)客戶系統(tǒng)情況配置）

1. 液氮儲罐/或小型液氮杜瓦： 大型的室外儲罐或可移動的杜瓦瓶，用于儲存液氮。

2. 真空絕熱傳輸管道： 連接液氮儲罐和MBE主機的管道，其雙層真空結構能最大限度地減少液氮在輸送過程中的汽化損失。

3. 液氮純化系統(tǒng)：即氣液分離器，成套的液氮傳輸系統(tǒng)不可少氣液分離器系統(tǒng)，用于純化液氮在管路傳輸過程中所汽化的部分液體，并排出氣體，保持系統(tǒng)溫度蕞低化。

4. 分配與控制單元（Distribution & Control Unit）： 系統(tǒng)的“大腦"。通常包括：

• 液位傳感器（Level Sensor）： 實時監(jiān)測冷阱內的液氮液位。

• 電磁閥（Solenoid Valves）： 根據(jù)液位信號控制液氮的注入與切斷。

• 壓力傳感器： 調節(jié)輸送壓力。

• 安全泄壓閥（Safety Relief Valve）： 在系統(tǒng)節(jié)點上安裝泄壓閥，確保系統(tǒng)壓力不會過高，防止危險。

5. 冷頭/冷阱（Cold Head /      Cryo-shroud）： 安裝在MBE腔室內部的最終冷卻部件。通常是圍繞在生長區(qū)域周圍的、內部有盤管或夾層的金屬屏壁。液氮在其中循環(huán)，使其外表面溫度降至蕞低。

該系統(tǒng)的工作流程：
液氮液位傳感器檢測到冷阱內液位低于設定值后，發(fā)送信號給系統(tǒng)編程控制器，控制器打開電磁閥，液氮在罐體收到系統(tǒng)控制器模式下，自動增壓，并通過真空管道流入冷阱，最終使液位上升至設定值，電磁閥關閉。液氮在冷阱內吸熱汽化后形成的氮氣，通過專門的排氣管道安全地排出系統(tǒng)。